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步进投影无掩模数字光刻机

2018-08-16 996 字号

技术特征

◆采用DMD作为数字化可变掩模,实现投影式无掩模数字化光刻;

◆采用积木错位蝇眼透镜平滑衍射效应,实现平行均匀照明;

◆采用反射式投影技术,实现DMD对图像灰度、曝光剂量的连续可控;

◆采用CCD检焦系统实现整场调平、自动逐场调焦或自动选场曝光;

◆采用计算机分级控制和光栅精密测量技术,实现工件台精密定位。

 

主要技术指标

● 曝光分辩力:1μm;

● 最大曝光基片:100 mm×100mm;

● 照明均匀性:±1%;

● X、Y、Z、θ四自由度电动位移台;

● X、Y运动定位精度:0.65μm;

● Z向运动精度:1μm;

● 转动台行程:±6°以上。

单位名称:中国科学院光电技术研究所

单位地址:四川成都双流西航港光电大道1号

单位网址:www.ioe.ac.cn

联系人: 胡松、赵立新     电话/传真:028-85100564

移动电话:13981738959      电子信箱:husong@ioe.ac.cn
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